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產(chǎn)品詳情
PECVD磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線利用射頻離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)，具有沉積速率快，成膜質(zhì)量好的特點(diǎn)，可快速鍍制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。
組成和系統(tǒng)：
1、PECVD磁控生產(chǎn)線由八個(gè)室組成，分別為：過渡室—加熱室—RF I室—RF II室—RF III室—RF IV室—冷卻室—過渡室。
2、PECVD磁控生產(chǎn)線由進(jìn)片臺(tái)系統(tǒng)、出片臺(tái)系統(tǒng)、貨盤回流系統(tǒng)、整機(jī)系統(tǒng)、真空機(jī)組系統(tǒng)、工件驅(qū)動(dòng)和夾具系統(tǒng)、真空測量與壓強(qiáng)控制系統(tǒng)、工件烘烤系統(tǒng)、冷卻配水及壓縮空氣系統(tǒng)、操作控制系統(tǒng)系統(tǒng)組成。
真空室尺寸和技術(shù)指標(biāo)：
尺寸：1000×800（尺寸可根據(jù)客戶要求訂做）
1、極限壓強(qiáng)：5×10-4pa
2、抽速：大氣到5×10-3pa抽氣時(shí)間小于20分鐘。
3、升壓率：1×10-3pa~1×10-1pa時(shí)間大于10分鐘。
4、生產(chǎn)節(jié)拍：3-5分鐘。（根據(jù)生產(chǎn)工藝而定）。
氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜種類
摘要:抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射
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摘要:本設(shè)備廣泛運(yùn)用在太陽能電
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摘要:該生產(chǎn)線運(yùn)用在薄膜太陽能
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摘要:該生產(chǎn)線共設(shè)計(jì)有七個(gè)真空
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摘要:該連續(xù)線共設(shè)計(jì)有十五個(gè)真
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摘要:LOW-E磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線，
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摘要:專門為層數(shù)不多但要求產(chǎn)能
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摘要:該設(shè)備是匯成真空針對(duì)數(shù)碼
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