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產品詳情
LOW-E磁控濺射鍍膜生產線,主要用于單、雙銀低輻射玻璃鍍膜,以及可鋼化單、雙銀低輻射玻璃鍍膜。Low-E玻璃用于節(jié)能建筑的幕墻及門窗玻璃,能夠隔熱節(jié)能,防治光污染。采用真空磁控濺射鍍膜的方法在玻璃表面鍍上多層金屬或其它化合物組成的膜系產品,所鍍制的玻璃對可見光有較高的透射率,對紅外線(尤其是中遠紅外)有很高的反射率,具有良好的隔熱性能。

1.極限真空:7x10-4Pa.
2.生產周期40~120秒/架
3.基本架尺寸:859*1500mm (可以根據(jù)要求定做)
4.膜層均勻性:±2%
5.膜層穩(wěn)定性:達到國際標準
主要用于單、雙銀低輻射玻璃鍍膜,以及可鋼化單、雙銀低輻射玻璃鍍膜。
